勻膠顯影機 型號:SC100-DE
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。
主要性能指標:
主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔)
旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個步驟可到0.1秒
轉動速度:0-10,000rpm(更高速可選)
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)
馬達旋涂轉速穩定性能誤差 < ±1rpm
轉速調節精度<1rpm,重復性< 1rpm
工藝時間設定: 0-3,000 sec/step,時間設置精度:0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)
標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水)